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纳米压印光刻在300mm晶圆上全速运行

晶圆键合和光刻设备供应商EVG集团推出了一个完全集成的轨道系统,该系统将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL晶圆级纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,适用于最大300mm的晶圆直径。

Hercules NIL 300mm专为需要大批量生产的公司而设计,是第一款基于EVG全模块化设备平台的NIL系统,具有可插拔模块,可根据生产需求实现最大可配置性。 它包括200mm和300mm晶圆的桥接功能。

事实证明,NIL是一种在大面积上制造微米和纳米图案的高效方法,可以复制复杂的结构并直接对功能层进行图案化,以适应各种结构尺寸和形状。EVG的SmartNIL技术是多年研究,开发和现场经验的结果,旨在满足传统光刻无法满足的纳米图案要求,并且经过现场验证,可以轻松扩展,从模具级样品尺寸一直到大面积基板。 EVG的SmartNIL技术也针对新平台进行了改进和模块化,以低力和保形压印,快速高功率曝光和平滑印章分离的方式提供市场上最先进的纳米压印功能。

Hercules NIL 300 mm支持各种设备和应用的生产,包括用于增强/虚拟现实(AR / VR)耳机,3D传感器,生物医疗设备,纳米光子学和等离子体激元的光学设备。

· 2019-06-12 07:39  本新闻来源自:eenews,版权归原创方所有

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