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photomask市场的文艺复兴?

特别是photomask市场在2017年和2018年的增长率非常强劲,分别为13%和8%,受人尊敬的半导体行业在过去几年中一直处于领先地位 - 而且这一增长趋势已经在供应链中崛起。而前一年与前一年(2006年至2016年)之间的差距非常大。年度光掩模市场收入徘徊在30亿美元左右,10年复合年增长率仅为1%。

所有这些都需要多个掩模。更重要的是,物联网(IoT)是什么推动了这一历史性的强劲增长?有几个因素,包括扩展193纳米浸没和其他深紫外(DUV)光刻和多重曝光/图案化技术。最后,虽然对增长的影响较小,2018年标志着长期推迟的极端紫外线(EUV)(EUV)光刻技术被三星投入生产。两家公司都将使用EUV进行5nm设计。英特尔将在他们的7nm器件上插入EUV,相当于7nm器件,适用于三星和台积电的5nm节点。名义上,他们的平均售价不是。

光掩模图表

从历史上看,EUV在被引入生产之前被视为一种比光学光学更具成本效益的技术。今天的转折是随着工艺复杂性的增加,EUV减少掩模数模式,模式的前景尽管有上升趋势,但EUV薄膜准备,次优抗蚀剂和缺乏强大的光化学感染工具等技术挑战仍在继续

SEMI还指出,随着全球最大的半导体光掩模市场在2018年创下历史新高,达到40亿美元,自有面膜供应商已大幅提升其市场份额以适应市场的增长。然而,商店并没有从去年开始重新获得一定比例的分数 - 专属店铺占据了64%的市场份额而2017年为65%,主要是因为更先进的(低于45纳米)掩模他们的总销售额。

· 2019-05-08 20:08  本新闻来源自:semi,版权归原创方所有

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